GIỚI THIỆU CÁC DÒNG THẤU KÍNH PLANO-COVEX (PCX)

Thấu kính Plano-Convex (PCX) siêu mõng

	Chi tiết
Đặc điểm	Độ dày trung tâm của thấu kính siêu mỏng để giới hạn GDD Lớp phủ chống phản xạ IBS băng thông rộng và thấp Phù hợp cho các ứng dụng Quang học Laser  Tích hợp lớp nền silica cho tia UV hoặc IR
Thông số kỹ thuật	Dung sai độ dài tiêu cự (%): ±1 Chất lượng bề mặt: 20-10 Công suất (P-V) @ 632.8nm: 1.5λ Bất thường (P-V) @ 632.8nm: λ/8

Ống kính đo tiêu cự laser singlet

	Chi tiết
Đặc điểm	Thấu kính N-BK7 được thiết kế để dễ dàng tích hợp vào hệ thống laser Độ dài tiêu cự từ 60mm đến 120mm AR được tráng để phản xạ tối thiểu ở mức 532 và 1064nm
Thông số kỹ thuật	Đường kính ống kính: 41.00mm  |  Đường kính thấu kính: 30.00 +0.0/-0.025mm Lớp phủ: YAG-BBAR (500-1100nm) Thông số lớp phũ: Rabs <0.25% @ 532nm  – Rabs <0.25% @ 1064nm – Ravg <1.0% @ 500 – 1100nm Cơ chất: N-BK7  |  Chất lượng bề mặt: 40-20 Công suất (P-V) @ 632.8nm: 1.5λ  | Bất thường (P-V) @ 632.8nm: λ/4 Dung sai độ dài tiêu cự (%): ±1  |  Dung sai độ dày trung tâm (mm): ±0.1 Khẩu độ CA (mm): 28  |  Đặc điểm kỹ thuật độ dài tiêu cự Bước sóng (nm): 587.6  |  Góc xiên: Bảo vệ góc xiên khi cần thiếtGiới hạn mật độ năng lượng điển hình: 5 J / cm2 @ 532nm, 10ns Dải bước sóng (nm): 500 – 1100

Thấu kính laser mỏng Plano-Convex (PCX) được tích hợp lớp Silica

	Chi tiết
Đặc điểm	Độ dày trung tâm của thấu kính siêu mỏng để giới hạn GDD Lớp phủ chống phản xạ IBS băng thông rộng và thấp Phù hợp cho các ứng dụng Quang học Laser  Tích hợp lớp nền silica cho tia UV hoặc IR
Thông số kỹ thuật	Chất lượng bề mặt: 20-10 Công suất (P-V) @ 632.8nm: 1.5λ Bất thường (P-V) @ 632.8nm: λ/8 Dung sai độ dài tiêu cự (%): ±1 Căn giữa (arcmin): <3 Dải bước sóng (nm): 500 – 1100

Thấu kính laser Plano-Convex (PCX) 

	Chi tiết
Đặc điểm	Ngưỡng thiệt hại do tia laser đảm bảo Chất lượng bề mặt 10-5 Độ chính xác bề mặt λ / 10
Thông số kỹ thuật	Cơ chất: Silica nung chảy (Corning 7980) Công suất (P-V) @ 632.8nm: λ Bất thường (P-V) @ 632.8nm: λ/10 Dung sai độ dài tiêu cự (%): ±1 Góc xiên: Bảo vệ góc xiên khi cần thiết

Ống kính Silica PCX được tráng phủ trên đường nét laser 532nm

	Chi tiết
Đặc điểm	Độ phản xạ <0,25% ở bước sóng 532nm cho các ứng dụng Nd: YAG sóng hài thứ 2 Có sẵn đường kính 5-50mm Có sẵn thiết kế EFL 10 – 250mm Các sẵm các tùy chọn lớp phủ V 405nm, 633nm, 1064nm và 1550nm
Thông số kỹ thuật	Lớp áo: Laser V-Coat (532nm) Đặc điểm kỹ thuật sơn: Rabs <0,25% @ 532nm Cơ chất: Silica nung chảy (Corning 7980) Chất lượng bề mặt: 40-20 Công suất (P-V) @ 632,8nm: 1,5λ Bất thường (P-V) @ 632,8nm: λ / 4 Dung sai độ dài tiêu cự (%): ± 1 Căn giữa (arcmin): ≤1 Bước sóng thiết kế DWL (nm): 532 Góc xiên: Bảo vệ góc xiên khi cần thiết Giới hạn mật độ năng lượng điển hình: 5 J / cm2 @ 532nm, 10ns Các cạnh: Mặt đất mịn, góc xiên bảo vệ khi cần thiết

Gọi cho chúng tôi ngay tại Hotline 0909 961 715 hoặc nhắn tin chúng tôi qua Fanpage